1、晶體習性與幾何描述:
該晶體使用直拉法在晶體(100)方向延伸。圓柱形表面(表面光潔度小于2.5 μm RMS)。經紅外成像法檢測晶體結構穩定可靠。晶體幾個結構由直徑和長度決定。當一個晶體屬于原生態晶體時,其當量直徑為:
D ----外形(xing)尺寸(cun)當(dang)量直徑
W----鍺晶體(ti)重量
L-----晶體長度
測量值是四舍五入最小可達到毫米(mi)級別。為了(le)便于訂單出貨,我們(men)會(hui)依據晶體(ti)的體(ti)積(ji)、直徑和長(chang)度進行(xing)分類(lei)。同時我們(men)可以滿足客戶的特殊需(xu)求(qiu),提(ti)供定制服務。
2、純度:殘留載荷
最大允許凈載流子(zi)雜質濃度(du)與探頭二極管的(de)幾(ji)個構造有關(guan),請(qing)參(can)照如列公(gong)式。其(qi)純度(du)依據據霍爾(er)效應測量和計算。
同軸探測(ce)器:同軸探測(ce)器適用于(yu)下列公式:
Nmax = 每(mei)立(li)方厘米(mi)最(zui)大(da)雜質含(han)量
VD = 耗盡層電壓 = 5000 V
εo = 介電常數 = 8,85 10-14 F/cm
εr = 相對介電常數(Ge) = 16
q = 電子(zi)電荷1,6 10-19C (elementary charge)
r1 = 探測器內孔半(ban)徑
r2 = 探測器外孔半徑
3、純度 :
假如晶體表面半徑減少2mm,由于鋰的漫射和刻蝕,內徑8毫米的內孔半徑, 適用公式變為:
D = 晶體外表面
平面(mian)探測器(qi):平面(mian)探測器(qi)(厚度小(xiao)于2厘米(mi))適用于以下(xia)公式:
d=探測(ce)器外觀尺(chi)寸厚度
徑(jing)向分散載荷子(絕對值)
遷(qian)移:霍(huo)爾遷(qian)移
性能: P 型晶體 μH ≥ 10000 cm2/V.s
N 型晶體 μH ≥ 10000 cm2/V.s
能級: P 型晶體 通過深能瞬態測量,Cutot ≤ 4.5*109 cm-3
N 型晶體 通過深能瞬(shun)態測量點(dian)缺(que)陷(xian) < < 5*108 cm-3
晶體主要指標: P 型(xing)晶體 N 型(xing)晶體
錯位密度 ≤ 10000 ≤ 5000
星型結構 ≤ 3 ≤ 3
鑲(xiang)嵌結構 ≤ 5 ≤ 5
4、高純度高純鍺HPGe晶體說明:
高純鍺晶體 | ||
產地 | 比利時 | |
物理性質 | 顏色 | 銀灰色 |
屬性 | 半導體材料 | |
密度 | 5.32g/cm3 | |
熔點 | 937.2℃ | |
沸點 | 2830℃ | |
技術指標 | 材(cai)料(liao)均勻度 | 特(te)級 |
光潔(jie)度 | 特優 | |
純度 | 99.999 999 99%-99.999 999 999 99%(10 N-13N) | |
制備方式 | 鍺單晶是(shi)以為原料,用直拉法(CZ)法或者垂直梯度法(VGF法)等方法制備的鍺單晶體。 | |
產(chan)品(pin)規格 | P、N型按客戶要求定制 | |
產品用途 | 電子元器件(jian)、紅外器件(jian)、γ輻射(she)探(tan)測器 | |
P型(xing)N型(xing)高純(chun)鍺(zang) | 在高純(chun)金屬鍺中摻入三價元(yuan)素如(ru)、、等(deng),得(de)到p型鍺; 在高純金屬鍺中摻入五價元素如銻、砷、磷(lin)等,得到n型(xing)鍺。 | |
交(jiao)貨期(qi) | 90天 |