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高純鍺HPGe晶體
品(pin)牌:泰坤
產地(di):比利時
型號(hao):定制
產(chan)品詳情


       1、晶體習性與幾何描述:

    該晶體使用直拉法在晶體(100)方向延伸。圓柱形表面(表面光潔度小于2.5 μm RMS)。經紅外成像法檢測晶體結構穩定可靠。晶體幾個結構由直徑和長度決定。當一個晶體屬于原生態晶體時,其當量直徑為:

    1.png                   


   D ----外形(xing)尺寸(cun)當(dang)量直徑

   W----鍺晶體(ti)重量

   L-----晶體長度

   測量值是四舍五入最小可達到毫米(mi)級別。為了(le)便于訂單出貨,我們(men)會(hui)依據晶體(ti)的體(ti)積(ji)、直徑和長(chang)度進行(xing)分類(lei)。同時我們(men)可以滿足客戶的特殊需(xu)求(qiu),提(ti)供定制服務。


       2、純度:殘留載荷

     最大允許凈載流子(zi)雜質濃度(du)與探頭二極管的(de)幾(ji)個構造有關(guan),請(qing)參(can)照如列公(gong)式。其(qi)純度(du)依據據霍爾(er)效應測量和計算。

         同軸探測(ce)器:同軸探測(ce)器適用于(yu)下列公式:

      689EC8D3C7F3A38B566C34EB2986D508.png

          Nmax = 每(mei)立(li)方厘米(mi)最(zui)大(da)雜質含(han)量

      ;   VD = 耗盡層電壓 = 5000 V

               εo = 介電常數 = 8,85 10-14 F/cm

           ;    εr = 相對介電常數(Ge) = 16

          q = 電子(zi)電荷1,6 10-19C (elementary charge)

          r1 = 探測器內孔半(ban)徑

            r2 = 探測器外孔半徑


       3、純度               

          假如晶體表面半徑減少2mm,由于鋰的漫射和刻蝕,內徑8毫米的內孔半徑, 適用公式變為:            

         

      3.png

      

         D = 晶體外表面            


          平面(mian)探測器(qi):平面(mian)探測器(qi)(厚度小(xiao)于2厘米(mi))適用于以下(xia)公式:

 

        4.png

           d=探測(ce)器外觀尺(chi)寸厚度

           徑(jing)向分散載荷子(絕對值)

           遷(qian)移:霍(huo)爾遷(qian)移

       性能: P 型晶體 μH ≥ 10000 cm2/V.s 

          N 型晶體 μH ≥ 10000 cm2/V.s

       能級: P 型晶體  通過深能瞬態測量,Cutot ≤ 4.5*109 cm-3

       N 型晶體&nbsp; 通過深能瞬(shun)態測量點(dian)缺(que)陷(xian) < < 5*108 cm-3

 

            晶體主要指標:                                P 型(xing)晶體               N 型(xing)晶體&nbsp;    

                  &nbsp;                        錯位密度             ≤ 10000   &nbsp;           ≤ 5000        

                                           星型結構             ≤ 3                  ;     ≤ 3              

                                           鑲(xiang)嵌結構   &nbsp;          ≤ 5                       ≤ 5              


       4、高純度高純鍺HPGe晶體說明  

高純鍺晶體


產地

比利時

物理性質

顏色

銀灰色

屬性

半導體材料

密度

5.32g/cm3

熔點

937.2

沸點

2830 

技術指標

材(cai)料(liao)均勻度

特(te)級

光潔(jie)度

特優

純度

99.999 999 99%-99.999 999 999 99%(10 N-13N)

制備方式

鍺單晶是(shi)以原料,用直拉法(CZ)法或者垂直梯度法(VGF法)等方法制備的鍺單晶體。

產(chan)品(pin)規格

PN型按客戶要求定制

產品用途

電子元器件(jian)、紅外器件(jian)、γ輻射(she)探(tan)測器

P型(xing)N型(xing)高純(chun)鍺(zang)

在高純(chun)金屬鍺中摻入三價元(yuan)素如(ru)等(deng),得(de)到p型鍺;

在高純金屬鍺中摻入五價元素如銻、砷、磷(lin)等,得到n型(xing)鍺。

交(jiao)貨期(qi)

90

 

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